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产品系列
世界上只有NTT-AT生产基于SiC膜的 FZP
利用具有高耐用性、SiC膜和清晰形状的Ta X射线吸收体的FZP能生产坚韧、高精确、清晰的产品。
NTT-AT公司的FZP因其高质量而在世界上被广泛用于产品生产。
优点
NTT-AT公司的由SiC膜和Ta吸收体图案组成的菲涅耳波带板(FZP)具有出色的高耐X射线辐射性、高分辨率和高对比度。
只有NTT-AT公司提供基于SiC膜的菲涅耳波带板(FZP)具有出色的高耐X射线辐射性。NTT-AT的FZP由干法蚀刻的Ta组成。吸收体图案清晰,S/N比高,成像缺陷少, 能理想地应用于X射线显微镜、X射线微光束辐射和X射线成像。
另外,还提供用于软X射线和极紫外(EUV、XUV)领域的Ta图案/SiN膜型FZP和Au板图案/SiN 膜型FZP。并提供台阶式(基诺全息照片)FZP。
特点
要点
能用于X射线显微镜、EUV显微镜、X射线微光束辐射和同步加速器辐射光束监视等各种X射线应用。
出色的高耐X射线辐射性
*小区域宽度达25纳米
可定制FZP
标准产品列表
型号 | 宽高 比 | 膜 材料 | 膜 厚度 (微米) | ΔRn (纳米) | D (微米) | N | Tm (纳米) |
---|---|---|---|---|---|---|---|
FZP-S38/84 | 4.2 | SiN | 0.15 | 38 | 84 | 550 | 160 |
FZP-S50/80 | 5 | SiN | 0.2 | 50 | 80 | 400 | 250 |
FZP-S40/155 | 5 | SiN | 2 | 40 | 155 | 970 | 200 |
FZP-S50/330 | 8 | SiN | 1 | 50 | 330 | 1,650 | 400 |
FZP-S86/416 | 8 | SiN | 2 | 86 | 416 | 1,200 | 700 |
FZP-100/155 | 8 | SiN | 2 | 100 | 155 | 388 | 800 |
FZP-173/208 | 5.8 | SiN | 2 | 173 | 208 | 300 | 1,000 |
FZP-200/206 | 8 | SiN | 2 | 200 | 206 | 255 | 1,600 |
FZP-C234/2500 | 0.6 | SiC | 0.2 | 234 | 2,500 | 2,670 | 150 |
※规格可能会变更,恕不预先通告。
Rn:*外区域宽度
D:直径
N:全区域
Tm:Ta厚度
菲涅耳波带板(FZP)的X射线吸收体图案
可按要求定制设计FZP,满足用户的特殊X射线能量、光学设置和聚焦、图像性能。如果本公司的标准产品商品目录中没有所需的产品,
图案示意图 (φ2.5mm)(光学显微镜) | 以对角观察的SEM图 (SEM) |
菲涅耳波带板(FZP)的结构
二进制型 | 台阶(基诺全息照片)式 |
*小区域宽度(*外区域) | 25纳米 |
---|---|
**直径 | 5毫米 |
膜材料 | SiN, SiC |
膜厚度 | 0.2至2微米 |
吸收体材料 | Ta |
吸收体厚度 | 0.1至2微米 |
Si基板形状 | 10平方毫米 |
Si基板厚度 | 1毫米 |
※我们可与用户商讨不同需求。
产品示例
超精密图案菲涅耳波带板(FZP)
菲涅耳波带板(FZP)直径:250微米,Ta厚度:125纳米,*外区域宽度:25纳米,膜:SiC 2.0微米
高纵横比(较厚Ta吸收体)菲涅耳波带板(FZP)
菲涅耳波带板(FZP)直径:100微米,Ta厚度:2.5微米,*外区域宽度:250纳米,膜:SiN 2.0微米
台阶(基诺全息照片)式菲涅耳波带板(FZP)
菲涅耳波带板(FZP)直径:100微米,Ta厚度:4.0微米,*外区域宽度:400纳米,膜:SiC 2.0微米
菲涅耳波带板(FZP)中间区域的SEM 图:台阶(基诺全息照片)式菲涅耳波带板(FZP)、Ta图案